La técnica de litografía ultravioleta extrema EUV se emplea en los procesos más avanzados de fabricación de semiconductores, aunque son pocos los fabricantes que tienen acceso a esta costosísima tecnología. A principios de mes, la marca SK Hynix se ha sumado a esta lista, tras la puesta en marcha de su fábrica M16, dedicada a la fabricación de memoria DRAM mediante esta moderna tecnología.
En los últimos años la industria de semiconductores ha tenido problemas para seguir miniaturizando sus arquitecturas, algo fundamental para incrementar la densidad de transistores en los procesadores y para fabricar chips de memoria con más capacidad. Para lograrlo, ciertos fabricantes han recurrido a nuevas tecnologías como la litografía ultravioleta extrema, o EUV, que ha permitido a marcas como Samsung y TSMC superar la barrera de los 10 nanómetros (nm), llegando a fabricar chips empleando tecnologías de proceso de 5 nm y, próximamente, de 3 nm.
Alcanzar estas capacidades supone un gran reto para la competencia de estas importantes marcas, ya que la tecnología EUV es muy costosa, pero después ofrece beneficios en forma de una importante reducción en los costes de fabricación y una mejor calidad de los productos finales. Una de las marcas que ha logrado sumarse a esta nueva corriente de la industria es la coreana SK Hynix, que a principios de febrero ha puesto en marcha su fábrica M16, en la que emplea tecnología EUV para la fabricación de chips de memoria DRAM.
El proyecto comenzó hace dos años en la ciudad noroccidental de Incheon, cerca de Seúl, y ha tenido un coste de unos 3.040 millones de dólares, una gran inversión que la empresa pretende rentabilizar con sus nuevas tecnologías de memoria para servidores y ordenadores. Además, no se puede descartar que esta tecnología pueda usarse para producir nuevos chips de memoria de almacenamiento, un campo en el que el fabricante coreano ha dado sus primeros pasos recientemente, y que podría beneficiarse de esta moderna tecnología.
En su anuncio explican que esta fábrica constituye la tercera etapa de un ambicioso plan de modernización en el que se han construido otras dos instalaciones, denominadas M14 y M15, ubicadas en Incheon y Cheongju, respectivamente. Este esfuerzo ha culminado con la construcción de esta gran planta, cuyas instalaciones ocupan un total de 57.000 metros cuadrados, con una altura de 105 metros, en la que la compañía afirma haber puesto mucho empeño en la reducción de la contaminación.
En su comunicado oficial, el director ejecutivo de SK Hynix, Seok-hee Lee, comentó que “M16 es una planta de fabricación compleja donde se concentran infraestructuras de vanguardia, como espacio dedicado para equipos EUV e instalaciones avanzadas de reducción de la contaminación. Se convertirá en una planta de producción de mayor nivel que contribuirá a la gestión ESG además de crear valor económico”.
